硫酸濃度：一般采用15％?20％。濃度的增加，膜的溶解速度增加，膜的成長速度，高的孔隙率的膜，吸附能力是很強的，靈活的，良好的染色（易染色黑暗中），但硬度，耐磨的略阻力;同時降低硫酸濃度，氧化膜的生長速度加快，膜的孔隙率小，硬度高，耐磨性好。
因此，用于保護，裝飾和純粹的裝飾處理，允許使用更多的濃度限值，即硫酸電解液20％的濃度。 電解質溫度，電解質溫度對氧化膜的質量有很大的影響。溫度升高時，膜的溶解速率，膜厚度的減小。當溫度為22?30℃時，得到的薄膜柔軟，良好的吸附能力，但耐磨性差;當溫度大于30℃時，膜變得松散和不均勻的，有時甚至是不連續的，且硬度低，從而失去了使用價值;當10?20℃之間的溫度下，所產生的多孔氧化物膜，吸附能力，并且充滿彈性，適合于印染，但膜硬度低，耐磨性差;當溫度低于10℃時，鋁氧化膜的厚度，硬度高，耐磨性好，但低孔隙度的增加。因此，生產必須嚴格控制電解液的溫度。以使厚且硬質的氧化物膜，必須降低工作溫度，在壓縮空氣混合的氧化和降低溫度的過程中使用時，往往是在一個零硬氧化。
電流密度：在一定限度內，更高的電流密度，膜生長速率的增加，氧化時間，產生膜孔，易于著色，以及更高的硬度和耐磨性;電流密度過高時，可能是由于焦耳熱的影響，過熱的部件的表面溫度的上升和局部溶液和膜的溶解速度，并且已刻錄份可以是;電流密度太低時，膜生長速度慢，但是該膜的密度，更低的硬度和耐磨性。